AlSc Alaşım Hedefi

Ürün adı: Alüminyum skandiyum püskürtme hedefi

Ürün takma adı: AlSc hedefi, alüminyum skandiyum alaşımlı hedef

Gümüş renk

Saflık: %99,9'a eşit veya daha büyük

Skandiyum içeriği: Sc 0.1%-99.9%

Density: >99.5%

Ortalama tane büyüklüğü:<500μm

Belirtilen pürüzlülük:<2μm

Şekil: kare hedef, yuvarlak hedef, dönen hedef (boyut müşteri ihtiyaçlarına göre özelleştirilebilir)

Bağlama: İndiyum lehimleme (bağlama yöntemi ve arka plaka malzemesi müşterilere göre özelleştirilebilir)

Teknik özellikler: ultra vakumlu döküm, hedef temizleme ve plastik işleme

Şu anda alüminyum-skandiyum alaşımı hedeflerini hazırlamak için iki ana yöntem vardır:

1.Skandiyum içeriği %15'ten az:

Alüminyum-skandiyum alaşımını hazırlamak, yani doğrudan alüminyum alaşımına metal skandiyum eklemek, döküm yoluyla alüminyum-skandiyum alaşımını elde etmek ve ardından alüminyum-skandiyum alaşımı hedefini hazırlamak için karşı doping yöntemini kullanmak uygundur.

Üretim süreci esas olarak vakum indüksiyonlu eritme yoluyla gerçekleştirilir. İndüksiyonla eritme için metal skandiyum ve metal alüminyum alaşım oranına göre bir potaya konur. Pota malzemeleri alaşım bileşimi ve özelliklerine göre seçilir. Alaşım malzemesinin daha yüksek sıcaklık, aktivite veya temizlik gereksinimleri varsa, pota malzemesi duruma göre zirkonyum oksit, kalsiyum oksit, itriyum oksit veya su soğutmalı bakır pota olarak değiştirilebilir. Dökümden sonra alaşım hedef embriyosu ihtiyaca göre vakumlu sıcak presleme, dövme, ısıl işlem vb. işlemlere tabi tutulur ve hedef embriyo yoğunlaştırma, tavlama, homojenleştirme ve ince taneleme gibi hedef embriyo söndürme ve temperleme işlemlerine tabi tutulur. Su verilmiş ve temperlenmiş hedef parçaları daha sonra müşterinin gereksinimlerine göre işlenir, temizlenir ve arka plakaya difüzyon kaynağı yapılır.

2.Skandiyum içeriği %15'ten fazla:

Skandiyum tozunu ve alüminyum tozunu hedef malzemelere doğrudan karıştırmak, preslemek ve sinterlemek için toz metalurjisi yönteminin kullanılması uygundur. Bu yöntemle hazırlanan alüminyum-skandiyum alaşımı hedefi nispeten tekdüzedir ve geniş bir isteğe bağlı skandiyum içeriği aralığına sahiptir. Ancak hedefte yüksek oksijen içeriği ve düşük yoğunluk gibi sorunlar bulunmaktadır.

Enstitümüz bir dizi alüminyum-skandiyum alaşımı hedef hazırlama patentine sahiptir ve küçük bileşim sapması ve yüksek saflık ile 12 inçten büyük büyük boyutlu alüminyum-skandiyum alaşımı hedefleri üretebilmektedir. Genel teknik seviye yurt içinde lider ve dünya standartlarındadır. Ürün yurtiçi ve yurtdışı müşteriler tarafından doğrulanmıştır.

Alüminyum-skandiyum alaşımı, yüksek performanslı bir alüminyum alaşımıdır. Alüminyum alaşımına eser miktarda skandiyum eklenmesi, tane incelmesini destekleyebilir ve yeniden kristalleşme sıcaklığını 250 dereceden 280 dereceye kadar arttırabilir. Alüminyum alaşımları için güçlü bir tane inceltici ve güçlü bir yeniden kristalleştirme maddesidir. Kristalizasyon inhibitörleri alaşımın yapısı ve özellikleri üzerinde önemli bir etkiye sahiptir ve mukavemeti, sertliği, kaynaklanabilirliği ve korozyon direnci büyük ölçüde iyileştirilir. Skandiyum, alüminyum üzerinde iyi bir dispersiyon güçlendirme etkisine sahiptir ve sıcak işleme veya tavlama işlemi sırasında yeniden kristalleşmemiş stabil bir yapıyı korur. Bu alüminyum-skandiyum alaşımlarından bazıları, büyük ölçüde deforme olmuş ve tavlamadan sonra bile bu yapıyı koruyan soğuk haddelenmiş levhalardır.

Skandiyumun alaşım hedefleri üzerinde iyi bir alaşım etkisi vardır. Alüminyuma eklenmesi, alüminyum alaşımının yapısını büyük ölçüde iyileştiren ve böylece mukavemetini artıran dağınık bir Al3Sc fazı oluşturabilir. Alüminyum-skandiyum alaşımlı hedef, korozyon direncine ve radyasyon direncine sahiptir. Güçlü mukavemet, düşük direnç ve yüksek termal kararlılık avantajlarına sahiptir ve alt tabaka elektrot katmanlarının ve büyük ölçekli entegre devre kablolama malzemelerinin kaplanması ve kullanılması gereksinimlerini karşılayabilir.

Alüminyum-skandiyum alaşımı hedefi, magnetron püskürtme reaktif biriktirme yoluyla skandiyum katkılı alüminyum nitrür (ScAlN) ince filmleri hazırlamak için kullanılır. Skandiyum katkılı alüminyum nitrür filmi, geleneksel AlN filminden yaklaşık on kat daha yüksek olan yüksek bir piezoelektrik sabitine sahiptir. Skandiyum alüminyum nitrür (ScAlN) piezoelektrik filmi, yüksek ses hızı, iyi termal stabilite ve geniş bant aralığı gibi önemli avantajlara sahiptir. Özellikle CMOS prosesiyle uyumludur ve alüminyum nitrür (AlN) piezoelektrik filmin basıncını yenebilir. Küçük elektrik gövdesi ve düşük elektromekanik bağlantı katsayısının eksiklikleri, toplu akustik dalgalar, yüzey akustik dalgaları, enerji hasadı, ultrasonik algılama ve alan etkili transistörlerde önemli uygulama değerine sahiptir. ScAlN filmleri mikroelektromekanik sistemler (MEMS), 5G radyo frekansı (RF) filtreleri, ultrasonik dönüştürücüler (PMUT), jest veya parmak izi tanıma cihazları, tıbbi sensörler vb. hazırlamak için kullanılabilir.

5G yeni nesil iletişim çağının başlamasıyla birlikte bant genişliği ve veri hızının yanı sıra bir diğer önemli parametre de Q değerinin iyileştirilmesini gerektiren sinyal bütünlüğüdür. Q değeri uygulamada kullanılan ince film malzemesinin piezoelektrik özellikleriyle ilgilidir. Şu anda kullanılan AlSc alaşımları farklı skandiyum (Sc) içeriklerine sahiptir. Daha yüksek Sc içeriği daha yüksek piezoelektrik özellikler getirebilir. Oksijen içeriği ne kadar düşük olursa piezoelektrik özelliklerdeki iyileşme o kadar belirgin olur. HNRE artık %43'e kadar Sc atom içeriğine sahip düşük oksijen içerikli alüminyum-skandiyum alaşımlı hedefler üretmek için yeni teknoloji kullanıyor.

Popüler Etiketler: alsc alaşım hedefi, Çin alsc alaşım hedefi üreticileri, tedarikçileri, Spesifikasyonda nadir toprak bileşiği, işlenmiş nadir toprak tozları, onarımda nadir toprak bileşiği, montaj nadir toprak alaşımları, Elektronik için nadir toprak metalleri, Baker Adası Nadir Toprak cevherleri